拓荆科技股份有限公司

拓荆科技股份有限公司概况

拓荆科技股份有限公司，简称“拓荆公司”或“本公司”，成立于2010年4月，于2021年1月12日完成股份制改革，总部设在辽宁省沈阳市浑南区。在北京、上海、海宁设立了三家子公司。作为一家专注于高端半导体专用设备研发、制造、销售和服务的企业，拓荆公司在芯片制造三大核心设备——光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备中扮演着关键角色。

拓荆公司多次参与国家级科技重大项目，连续被评为2016年度、2017年度、2019年度“中国半导体设备五强企业”，彰显了其在行业内的领先地位。公司产品线涵盖等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、原子层沉积（ALD）和次常压化学气相沉积（SACVD）设备，技术性能与国际同类产品相比毫不逊色，广泛应用于集成电路晶圆制造、TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等领域。至今，公司已成功交付逾150台设备，累计服务超过1500万片晶圆。

公司汇集了一批海外高层次专家与国内顶尖人才，形成一支国际化专业团队，具备强大的研发能力和丰富的管理经验。公司员工总数超过350人（含子公司），拥有自主知识产权体系，并荣获“国家知识产权示范企业(2019-2022)”称号。

总部占地面积80亩，建筑面积40,000平方米，配备现代化办公大楼、高级洁净厂房、无尘实验室及高端薄膜实验设备，致力于打造前沿的半导体薄膜技术平台。公司一期产业化基地年产能可达100套设备，全面投入后年产量将提升至350套，有效满足市场需求。

拓荆公司构建了遍布全球的供应链网络，同时在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等地设立技术服务中心，提供7×24小时不间断技术支持。公司运营体系通过了ISO9001、ISO14001、ISO45001体系认证，确保了高效、安全、环保的运营环境。

拓荆公司致力于与产业界伙伴携手共进，推动中国乃至全球半导体产业的持续发展。我们期待与各界同仁建立长期、互利的合作关系，共同创造更加辉煌的未来。