光刻工艺研发资深/主任工程师(J10093)

1. 参与定义并建立开发新器件或产品所需的工艺流程、程序和所需设备；

2. 参与选择和开发光刻工艺所需的材料和设备，以满足质量、可靠性、成本、产量、生产率和可制造性要求；

3. 维护光刻工艺产线稳定，排除生产线异常；

4. 与光刻/轨道/量测团队合作，对产品套刻/聚焦/关键尺寸均匀性/缺陷进行改进；

5. 与IT/供应商合作开发和改进APC系统；

6. 为产线操作技术人员制定产线产品处理SOP/OCAP；

7. 在团队负责人/经理带领下，对现有光刻工艺做出优化/改进。

任职资格:

1. 电子工程、光电工程与科学相关、化学工程、材料科学、物理、化学等相关专业本科以及以上学历；

2. 5年以上光刻工艺开发或者量产光刻工艺经验,12寸经验优先；

3. 拥有5年以上统计过程控制 (SPC) 或实验设计 (DOE) 原理经验；

4. 对光刻工艺、光刻机、光刻胶涂布显影机、套刻和关键尺寸 (CD) 优化等有深入的了解和实践经验；

5. 拥有工艺开发经验，包括材料选择、工艺窗口优化、缺陷源调查；

6. 具备良好的沟通能力和团队合作精神，良好的英语听说读写能力；

7. 具备较强的逻辑分析能力、协调和执行能力。