中微半导体设备(上海)股份有限公司
500-999人
公司优势
中微公司遵循“三维发展”战略,2022年营收达47.4亿元人民币,拥有超过2250项专利,并在超过3300个反应台的106条生产线上实现量产。这些生产线分布于中国大陆、中国台湾地区、新加坡、韩国、日本、德国和意大利等地。
在集成电路制造设备领域,中微公司的等离子体刻蚀设备包括电容性高能等离子体(CCP)刻蚀设备和电感性低能等离子体(ICP)刻蚀设备,拥有独特的单台机和双台机设计,广泛应用于国际一线客户从65纳米到5纳米及更先进芯片的生产线上。CCP刻蚀设备性能已达国际领先水平;ICP刻蚀设备的刻蚀均匀性达到了原子级别;ICP技术的深硅(TSV)刻蚀设备在先进系统封装、2.5D封装和MEMS芯片等领域获得批量订单。公司还在开发用于集成电路前端的多种薄膜沉积设备,如低压化学气相沉积设备(LPCVD)和硅及锗硅外延设备(EPI),并在2022年开始推出12英寸LPCVD设备,其性能达到国际先进水平。
在泛半导体设备领域,中微公司的金属有机化学气相沉积设备(MOCVD)用于LED和功率器件外延片的生产,并在Mini-LED产业化的蓝绿光LED生产线上取得领先地位。公司正在开发用于碳化硅功率器件的外延设备和Micro-LED专用MOCVD设备。
在其他战略新兴领域,中微公司旗下的中微惠创、中微汇链和芯汇康分别在环保节能设备、中小企业运营软件系统和大健康领域的数码技术应用方面取得进展,推动公司实现高速、稳定、健康和安全的发展。
2019年,中微公司作为首批科创板企业在上交所上市,并成为科创板首家市值超千亿元的半导体设备公司。多年来,中微公司及其产品荣获近百项知名奖项,包括两次中国专利金奖、国家企业技术中心、“制造业单项冠军产品”称号、第四届中国质量奖提名奖、中国国际工业博览会金奖和银奖、福布斯中国最具创新力企业50强等。
中微公司全球总部及产业基地位于上海浦东,南昌产业化基地于2023年投入运行,上海临港产业化基地和总部暨研发大楼也在建设中。公司拥有1500多名国际化人才,分布在中国大陆及台湾地区、新加坡、韩国、日本和北美等地。
中微公司提供广阔的职业发展平台、完善的薪酬福利和全员持股等全面和持久的回报。欢迎加入中微公司,共同塑造数字时代的人类生产和生活方式。
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