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广东智德力国际教育科技有限公司

20人以下

公司优势

广东智德力国际教育科技有限公司由安徽淘云科技股份有限公司与广州市智德力贸易有限公司共同创立。
安徽淘云科技股份有限公司专注于提供儿童智能产品、语音技术方案及云智能平台。
该公司位于安徽省合肥市高新区中国声谷,隶属于科大讯飞,专注于青少年智能教育产品的研发。
广东智德力国际教育科技有限公司专注于英语语言研究、中文语言研究及中国传统文化。
公司以“陪伴青少年快乐成长、开心学习”为使命,与科大讯飞教育团队合作,致力于青少年教育产品的设计、开发和销售。
各专项教研负责人均拥有超过15年的教学经验。
顺应国家发展人工智能教育的趋势,公司致力于实现智能硬件设备与中国优质教学资源的深度融合,创新人工智能教育设备解决方案。
公司拥有一支强大的语言教育专家和AI设备开发团队,并与国内知名语言学府建立了良好的校企合作关系,成立了语言研究中心。
公司持续设计并提供适合不同学习阶段儿童的高质量绘本。我们的目标是向每位学习者提供更多专业教育资源,帮助他们在提升语言思维能力的同时,培养AI应用意识。
我们的中文项目正在全面推进。我们诚挚邀请您的加入。

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作为国内探索的疫苗行业数字化服务商,致力于通过基层医疗数字化运营,成为中国健康和预防服务数字化践行者。聚焦疫苗、体检、检测、医美等领域,以智慧化运营促进民众健康为目标,秉持客户导向、追求卓越、求真务实、共创共赢的价值观。

目前服务于国内外1000多家知名医疗机构,业务覆盖国内港澳台等60+城市及新加坡、马来西亚、泰国、韩国、日本、美国等多个国家和地区。在疫苗领域,与全网各大平台合作,连续5年蝉联疫苗行业线上销售冠军,2022年GMV达27亿。

核心团队汇聚辉瑞、默沙东、赛诺菲、葛兰素史克等外资疫苗企业中高管及互联网头部电商创业者,融合疫苗产业和互联网双基因。

2021年获疫苗数字化赛道首笔融资,由IDG领投千万美元。2022年获A+轮融资,由夏尔巴资本领投,A++轮融资由经纬创投领投,IDG资本、嘉程资本两轮继续加持,累计融资数亿元。

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深圳华域佳泰纺织科技有限公司成立于2007年,总部设在深圳,并在中山市设有分公司和超过1000平方米的研发中心,专注于推动传统纺织制造业供应链的数字化转型。作为国家高新技术企业和深圳内衣协会会员单位,公司拥有众多发明专利、实用新型专利和软件著作权,通过自有专利进行产品开发,产品远销欧美市场。

公司秉承“诚信、创新、真诚、共赢”的核心价值观,将诚信置于商业行为准则之首,以创新为核心经营理念,推行现代营销新战略。公司以真诚的态度和诚信的行为准则面对投资者、员工、商业伙伴及社会,信守承诺,追求互惠互利,共同分享卓越成果。

经过14年的稳健发展,公司已在全球视野下立足,同时积极拓展国内外市场,致力于实现绿色、高效、可持续的发展目标。

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**公司简介**

广州微纳光刻材料科技有限公司成立于2020年,是广东省内唯一专注于研发90nm至55nm制程高端半导体芯片制造所需的193nm光刻胶及相关材料的高科技企业。公司为包括中芯国际、广州粤芯在内的客户提供定制化的光刻胶解决方案。

自2016年起,公司开始致力于ArF国产光刻胶的研发项目。创始人在珠海横琴成立的光刻胶树脂公司率先进行自主研发,并在上海、北京等地的客户生产线上的ASML光刻机(涵盖90nm、65nm、55nm制程)上进行了大量评估实验。研发成果的关键技术指标,如分辨率(DOF)等,已超越现有行业领先产品,居于国内领先地位。总部位于广州南沙区,并在珠海、上海设有研发中心和实验室。

**团队简介**

技术团队以原英特尔博士为核心,负责光刻胶材料的研发工作。团队还拥有一名在日本有着多年光刻胶工艺技术经验的资深专家,负责生产工艺和质量控制。两位来自中芯国际光刻部门的光刻专家则负责曝光评估和市场策划。团队的核心成员在光刻胶材料开发和应用领域积累了丰富的经验。此外,公司聘请了资深的财务和法务顾问,负责风险管理和合规性。运营模式借鉴了国际领先的光刻胶和半导体公司的最佳实践。公司已选择符合安全生产标准的浙江嘉兴与广东新丰两座工厂进行代工生产,并严格遵循SPC原则进行生产和质量管理。

**产品介绍**

广微纳公司已成功注册“纳刻”商标,推出了纳刻系列光刻胶产品。这些产品均基于本土研发,拥有完整的自主知识产权。特别是在ArF光刻胶系列中,公司提供性能卓越的ArF干法光刻胶。经中芯北京55 nm节点产线评测,其DOF(分辨率)大于300 nm@ 81 nm L/S,显著优于市面上的商用ArF干法光刻胶。

**原材料与专利**

公司对ArF感光树脂和光敏剂的专利技术享有使用权,确保了原材料的独占供应。所有光刻胶原材料均由珠海公司独家提供,从而保证了产品的独特竞争力。

**专利信息**

公司拥有两项ArF光刻胶的中国发明专利,覆盖了从90nm至55nm的线型和孔洞型光刻胶配方。其中,“一种适用于90~60nm半导体工艺的ArF光刻胶及其制备方法与应用”专利于2021年3月获得授权,专利号为ZL 201910388389.4。

**公司发展现状与规划**

广微纳公司凭借其资本实力和技术积累,成功实现了ArF光刻胶的国产化开发,填补了国内高端光刻胶材料市场的空白。目前,公司提供的ArF光刻胶加仑样品正在接受客户的测试。未来,公司将根据半导体客户的具体需求进行定制化产品开发,旨在提升生产良率和扩展工艺窗口,提供高性能的光刻胶解决方案。