纯源镀膜招聘

公司现拥有一支涵盖设计、研发、工艺、市场及生产等领域的专业团队，掌握包括纯离子镀膜（PIC）、化学气相沉积（CVD）、磁控溅射、多弧离子镀、离子束刻蚀清洗在内的多种真空镀膜技术，并达到国内外领先水平。公司已申请50余项核心知识产权。自主研发的纯离子镀膜设备（Pure Ion Coating，简称PIC）能制造高性能金属膜、合金膜、金属化合物膜及类金刚石薄膜；另一核心技术产品NDT（New Diamond Technology）同样能制备性能优异且稳定的类金刚石薄膜。产品膜层种类包括Ta-C、DLC、低温氮化物膜（如TiN、CrN）、碳化物膜（如CrC）以及高致密金属/合金膜等。通过纯源镀膜制备的纳米/微米级膜层具备以下特性（具体取决于膜层类型和应用领域）：镀膜温度低、无热应力、高纯度、高致密、超硬、无颗粒、耐磨、摩擦系数低、抗划伤、耐腐蚀、均匀性好、附着力强、导电性能可调节、高热导、生物相容、抗菌及红外/激光透过率高等。这些膜层广泛应用于3C消费电子、半导体、交通工具、刀具模具、新能源、医疗、科研等多个领域。